中国科学技术大学教授路军岭应邀来校讲学

      2014年 5月19日上午，校友、中国科学技术大学路军岭教授应邀来校，在金明校区物理楼604教室为我校相关专业在读研究生作了题为“基于原子层沉积技术的金属纳米催化材料精细设计与合成”的学术报告，报告会由物理与电子学院院长顾玉宗主持。
 
      顾玉宗代表物理与电子学院对路军岭教授回到母院表示欢迎。报告会上，路军岭结合自己多年科研工作的实践，为大家介绍了ALD法在表面物理化学领域的应用，详细讲解了利用该技术在原子层面精确设计单金属、双金属催化剂，以及对金属催化剂进行精确改性方面的最新科研进展。在随后的互动环节中，他与现场的师生进行了深入探讨和交流。并详细解答了一个个学术研究中的问题。

      路军岭， 1979年生。中组部第三批“青年千人计划”入选者。  本科毕业于河南大学物理与电子学院，2007年于中科院物理研究所博士毕业。2007至2013年，先后在美国西北大学表面与催化中心和美国阿贡国家实验室从事博士后研究工作。  主要从事表面物理，表面物理化学的基础研究，以及负载型纳米催化剂的制备、表征和催化性质研究等工作，其中在利用原子层沉积技术（ALD）实现在原子层面对金属催化剂的精确改性、及新型催化剂的精确设计和制备方面做出了较为出色的工作。